Poly-Si-Ring 멀티 링 Descriptions Chamber내부의 Gas흐름이 Gas분포와 Etching 균일도를 결정한다. Slot의 방향을 하부로 하여 기존 대비 Down flow에 의한 자연스런 Gas 배출유도 ->Gas의 확산력이 개선된다. View more information 항목 속성 값 Material Poly crystalline Outer Diameter 440mm ~ 600mm Resistance(Ω.㎝) Low resolution (<0.02) / Medium resolution (1~4) Surface State Polishing, lapping, grinding Surface Flatness < 5㎛ Processing Precision < 10㎛ Quality No chipping, scratch, cracking, contamination, pigmentation